其实差不多半年前的时候米国那边也是召开了光刻技术展览会，在展览会上米国的光刻机光源科技公司Cymer公司研制的离子束光源展示的技术成果只能是做到55瓦，虽然说光源波长比瑞星科技公司公司的波长要短，能做到22纳米，但是因为功率低，现阶段来说是无法真正投入实用的。
这次瑞星科技公司却是率先将这种激光光源做完全做到了实用化，也就是说在光源系统上已经领先于米国的这家Cymer公司。
这也意味着瑞星科技公司公司即将推出的新型光刻机可以将制程工艺做到10纳米以下，这对整个半导体业界来说都是一件极为重大的事情！
此时坐在台下的尔英特集团公司的代表和艾斯摩尔公司的代表脸色都是非常难看。
瑞星科技公司公司的光源系统在华兴科技集团公司以及中科院的加持下一直研发氮化镓半导体固态激光光源，因为这套光源技术里面的核心技术和材料都是国内独有的，而且华兴科技集团公司一直在玩大功率的激光光源，而且也是将高功率脉冲电源技术也给用了进去，前几年就研制出了高达500千瓦的高能激光光源，通过几年的测试改进，也是移植到了光刻机的光源系统上，所以在光源系统上的研发是很顺利的。
华兴科技集团公司从一开始就开始玩半导体激光，一开始从激光读写头开始玩起，后来开始玩半导体激光光源波长最短的氮化镓激光光源，并且利用国内在非线性光学晶体材料上的绝对技术优势玩激光倍频技术，瑞星科技公司公司自然在光刻机光源系统上能得到最好的技术成果。
光刻机是用来干活的，客户有着强烈的产能的需求，在相同的曝光量下，光源的功率越高，曝光需要的时间越少，这样单位时间里面产能越高。
再加上要得到这样高功率的极紫外光，需要功耗极大的激光器，电能转化为激光时也是变为了热量损耗掉了一大部分，其次修正光的前进方向时，每一次反射仍会损失3成能量，经过十几面反射镜，将光从光源一路导到晶圆，最后大概只能剩下不到2%的光线。
被吸收的能量必须要用大功率散热系统进行冷却，而激光器本身工作时候会产生很大的热量，也是需要一套优良的散热冷却系统，才能保证机器正常工作，可以说是不折不扣的耗能大户。
不夸张的说，现在华兴科技集团公司在半导体激光技术领域成了全世界绝对的技术霸主。
这之前三阳光学公司研制出可以长时间经受住极紫外光光源照射破坏的镀膜材料已经可以承受住波长在25纳米极紫外光光源照射的反射镜镜头装置，不过这次瑞星科技公司并没有使用25纳米的深紫外光源，因为华兴科技集团公司的半导体材料公司这两年研制出来的光刻胶才能承受住35纳米的深紫外光的辐射损伤。
为了攻克这些世界级的难题，三阳光学公司这些年技术团队那是没日没夜地用时间和不断地实验改进材料和加工工艺一点点地将这些硬骨头给啃下来的。
尽管艾斯摩尔公司可以得到米国国内最好的极紫外光刻机需要的最好光源和计算光刻等方面的应用服务，而且提前两年推出了极紫外光刻机的原型机，但是瑞星科技公司公司却是上下一心，硬是靠着砸钱砸人砸时间将极紫外光刻机研发样机开始投入正式地开始投入实用化。
去年的时候艾斯摩尔公司才推出了第一台研发用的样机。
何玉光在介绍完光源系统和镜头组后说道：“这次我们推出的新型双工件台也是使用了不少的新技术，使用了更高精度的测温传感器和新的冷却系统，可以将工件台内部稳定控制在千分之五度以内，另外也是使用了新型的磁悬浮轴承系统和高精度的激光测距定位系统，保证工件台的同步精度可以做到2纳米以内，让对焦系统的精度达到了一个全所未有的水平。”